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产品描述
退火温度均匀性: | ±2.0℃ | 退火温度准确性: | ±2.0℃ |
降温速率: | 30℃/s | **升温速率: | 50℃/s |
温度范围: | 室温~1200℃ | 样品尺寸: | 2英寸 |
产地类别: | 进口 | 仪器种类: | 高真空快速退火炉 |
价格区间: | 10万-30万 |
快速热处理(RTP)已经成为半导体、铁电体以及镀膜行业的重要退火技术。但是目前,只有大型的、昂贵的生产设备才能完成快速热处理,这大大降低了研发工作的效率(尤其是小的样品)。为了满足市场的需求,ADVANCE RIKO研发出MILA-5000系列的小型快速退火炉。此系列的设备包含红外金面反射炉和高精度的温度控制器。根据需求选配相应的泵和气体接口,MILA能提供与大型RTP设备相同的热处理性能。
特点:
l 快速加热及冷却能力;
l 可在任意气氛中使用;
l 实时观测试样;
l 精确的温度控制;
型号 | MILA-5000Series |
温度范围: | 室温~1200℃ |
加热功率: | 50℃/s(50~1200℃)真空 45℃/s(50~1200℃)氮气氛围 |
温度均匀性: | ±2.0℃(ΔT=4℃)1200℃真空 ±4.5℃(ΔT=9℃)1200℃氮气氛围 |
加热气氛: | 大气、真空、惰性气氛环境下 |
试样尺寸: | MAX:50 square or φ 50 x T5 (mm) |
程序模组: | 温度VS时间设定、Step数256、Program数32(Max); PID+Fuzzy控制、自动微调、USB通讯、自动/手动切换; |