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产品系列
产品描述
红外金面反射炉应用于科研和生产当中,RHL-P系列红外金面反射炉具备加热速度快,温度范围宽等特点。
应用:
硅、半导体复合材料的快速退火;
可用作玻璃和陶瓷材料的退火炉;
可用作金属退火炉;
复合材料的耐热性评价炉;
高温膨胀/收缩测试炉;
特点:
抛物型反射面可以使平行的红外灯管提供一个更均匀的加热区域;
仪器参数:
型号 | RHL-P410C | RHL-P65C | RHL-P68C | RHL-P610C | RHL-P616C | RHL-P810C |
温度范围 | RT to 1350 °C | RT to 1200 °C | RT to 1200 °C | RT to 1200 °C | RT to 1200 °C | RT to 1100 °C |
加热腔尺寸 | φ 20 mm x | φ 40 mm x | φ 40 mm x 60 mm | Φ40 mm x | Φ40 mm x | Φ50 mm x |
应用 | 该反射炉需配备水冷系统; 温度变化会根据样品材料和加热腔的大小不同; 加热区域是一个参考值; |